EUV技術はまだ未熟、インテルとサムスンは7nmで障害に遭遇

プロセスマニアのTSMCは7nm/5nm/3nmについて語り続けているが、現実的な問題は、10nm未満のチップを製造するために使用される主要な技術や装置であるEUV（極端紫外線リソグラフィー）リソグラフィー装置が、依然として多くの商業的課題に直面していることだ。昨日カリフォルニアで開催された光電子工学協会（SPIE）の年次総会で、サムスンとインテルの専門家はEUVの進歩における困難さを認めた。サムスンは昨年末に最初のEUVマスクを製造したが、欠陥はほとんどなかったと述べた。インテルは1992年にEUV技術の開発を開始し、昨年末に初の商用品質のEUVマスクをウエハー工場に出荷した。同社は現在、欠陥のない14、10、7nm EUVケーブルの製造に取り組んでいます。既存の 8 つのコア EUV プログラムのうち、6 つは準備が整っているか、まもなく準備が整う予定です。インテルのEUVプログラムの責任者であるブリット・ターコット氏は、EUVウェーハを覆うのに使用されるペリクルはまだ開発中であり、EUVマスクを検査するための新しいツールもまだ検証中であると指摘した。しかし、サムスンは依然としてEUVが7nmプロセスノードで使用できると考えていると述べ、インテルも同じ見解だが、導入する前に完全に成熟するまで待つ必要があると述べた。現在、オランダのASMLは最高級液浸露光装置の80％のシェアを握っており、そのうちNXE 3350Bは全14台のEUVシステム（計6台）の絶対的な主力であり、その単価はF35戦闘機1機の価格に相当する6億元にも上る。インテルは3350Bの最も経験豊富なユーザーだが、EUVチームの専門家であるブリット・ターコット氏は、その稼働時間は75％を超えるものの、一旦稼働するとマスクの問題が次々と出てくると述べた。

今日頭条の青雲計画と百家曼の百+計画の受賞者、2019年百度デジタル著者オブザイヤー、百家曼テクノロジー分野最人気著者、2019年捜狗テクノロジー文化著者、2021年百家曼季刊影響力のあるクリエイターとして、2013年捜狐最優秀業界メディア人、2015年中国ニューメディア起業家コンテスト北京3位、2015年光芒体験賞、2015年中国ニューメディア起業家コンテスト決勝3位、2018年百度ダイナミック年間有力セレブなど、多数の賞を受賞しています。

<<: ソニーの新しいフラッグシップ XZ Premium が世界で初めて開封され、ハイテクカメラが披露されました。

>>: iPhoneをインターネットに接続しますか? iOS 10.2の隠された機能が明らかに